Toyohiro
編集の要約なし
12:40
−87
Yuukin0248
120.20.106.6 (会話) による ID:74385589 の版を取り消し
04:03
−1
120.20.106.6
03:00
+1
Jxev\tr
→ドーパント注入
22:42
+4
210.172.29.236
06:48
+15
Addbot
ボット: 言語間リンク 9 件をウィキデータ上の d:q1436752 に転記
16:23
−248
Penn Station
+{{出典の明記}}
10:45
−183
1.33.218.193
Wikipedia:レイアウトの指針#記事の構成、{{Commonscat|Ion implantation}}、{{デフォルトソート:}}
17:10
+411
EmausBot
r2.6.4) (ロボットによる 追加: zh:离子注入
13:29
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114.182.38.188
05:10
−27
Se9691lf
09:55
TXiKiBoT
ロボットによる 追加: fa:کاشت یون
14:39
+23
122.135.21.177
08:46
−3
Aichi2009
fix isbn
03:26
Tosaka
「半導体の製造」節に少し加筆など。
18:51
+805
VolkovBot
ロボットによる 追加: ru:Ионная имплантация
14:00
+43
じいじいじい
15:04
+762
13:33
+878
→Co-Implantation
13:50
+49
→半導体工学への応用
13:46
+250
→SOI（Silicon on Insulator）
13:27
+24
05:33
+394
123.225.186.220
07:50
+324
PipepBot
ロボットによる 追加: fr:Implantation ionique
00:49
+28
210.79.165.133
13:12
+16
PixelBot
ロボットによる 追加: es:Implantación de iones
02:51
+30
218.221.150.214
14:08
+25
竃馬
ch cat
08:35
+21
SuisuiBot
+: it, pl
23:26
+55
Daisydaisy
素子分離追加
00:06
+355
202.32.178.36
{{tech-stub}}
03:47
+5
Sina
+cate
10:58
+50
210.188.67.201
→半導体工学への応用: 見出しリンクトル
15:00
−4
Yanahan
enの和訳（途中）
13:58
+3,569
