「無菌播種」の版間の差分

 
 一部のランでは培地に高濃度の硝酸イオンが含まれていると発芽・生育が不良になる。一般の植物培養で代表的な培地として知られる[[ムラシゲ・スクーグ培地]](MS培地)や京都培地([[ハイポネックス培地]])には窒素源として多量の硝酸塩が含まれており、前述のような特性をもつランでは標準濃度で使用すると著しい生育阻害をおこす。地生ランの培養では一般に無機塩を標準(洋ラン用)より希釈して使用するが、さらに窒素源を[[硝酸アンモニウム]]に置き換えたり、それでも生育阻害が生じる場合には窒素源として有機窒素化合物(たとえば[[アミノ酸]])を使用するなどの試みがされている。
 
 ・培地濃度の希釈
 
 
 地生ランは培地に含まれる無機塩や糖類の濃度が高いと発芽率が低下する場合がある。着生ラン用培地と同組成で培養可能な種類でも、濃度は2分の1から3分の1程度に希釈したほうが好適な場合がある。温帯以北の地生ランでは糖濃度も10-15g/l前後(通常の培地では30-35g/l)でもっとも発芽率が高くなる場合があるが、苗の生育に好適な糖濃度はそれより若干高いため発芽後に新しい培地に移植することが望ましい。
 
 ・植物生長ホルモンの使用:
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