「クリーンルーム」の版間の差分

電子工業用途で[[半導体]][[集積回路]]、[[液晶パネル]]、[[プラズマパネル]]、[[マイクロマシン]]などの製造工場においては必須となっている。これは[[集積回路]]の焼付け工程において、塵埃が隣接する回路との短絡、あるいは欠損を引き起こし不良が発生するため、清浄空間での作業が必要とされるからである。他に精密機械などの製造工場がクリーンルームとなっていることがある。

空中浮遊菌数と空気清浄度の5.0μm以上の粒子数はおよそ比例傾向（絶対評価ではない）にある事ことが多い為ため、クリーンルームとして空気中の浮遊微粒子数を制御している。但ただし、細菌類は単純に空気清浄度のみ制御すれば抑制できる物ものではなく、定期的な殺菌消毒やクリーンルームの運営方法、人員の入退室方法を適切に管理する必要がある。

近年では殺菌消毒を行っても2時間程度で再度菌が発生する事ことが確認されている事例が多い為ため、殺菌消毒の必要性を疑問視する声が多い。

細菌を含め、異物、虫などの混入できが許されない環境で食品製造を行うことが品質確保の面で必要な場合に、調理場や製造ラインをCR化する場合がある。

[[放射能線]]が外部へ流出しないよう、また、[[遺伝子組み換え]]などの実験が行われる場所での排気を通して、外部に有害物質が持ち出されることのないように、排気の塵埃を除去する場合がある。厳密に言いえば、「中が汚れていても、外部を汚さない」という点で通常とは逆のクリーンルームの考え方となるが、基本的に構造上同じ設備を逆向きに設置することとなる。生物的な[[ハザード]]という意味で、[[バイオハザード]]ルームと呼ばれたりする。

空気中の塵埃を除去するため、建屋内で閉鎖された構造の区画に超高性能[[エアフィルタ]]（[[HEPA]]、[[ULPA]]など）を通じて空気を送り込み、排気経路から流出する空気を建屋外に排気または建屋内で循環させる給排気システムを備えている。給排気システムは用途に応じて気流の制御が行われ、一方向流式、非一方向流式がある。

給排気システムでは室内の圧力管理も行い、外部からの塵埃の流入を防止するため、室内気圧を外気圧より5～10Pa程度大きくし陽圧とする。ただし、ハザード用途の場合は室内気圧を外気圧より若干下げ、陰圧とする。

冷暖房も必要である。となり、特に電子工業用途では、露光装置の寸法精度を確保するための、温度・湿度の管理が必要であ不可欠となる。

[[紙]]はそのわずかな繊維などがも塵埃となるため、発塵を抑えたクリーンペーパー（無塵紙）というものを使用する。

また、[[鉛筆]]や[[シャープペンシル]]はの芯から発塵するため使用不可であり、持ち込みが禁止であされる場合が多い。[[ボールペン]]もノック式ではなくキャップ式を用いることがある。

どの程度の塵埃を許容するかの指標として、1立方フィートあたりの空気に、粒径0.5μm（マイクロメートル）以上の塵埃（粒子個数）がいくつあるかの数字で表す事ことが多い。

医療、食品関連のCRであれば0.5μm以上の粒子を対象とし、産業用は0.5～0.1μm以上の粒子を対象にする事ことが多い。

特に半導体プロセスでは、材料ガスとして常温常圧で自然発火する[[シラン (化合物)|シラン]]、[[ホスフィン]]のほか、水素、高純度酸素等が用いられるため、火災・爆発には注意が必要である。

また、これらのほかにも不活性ガスの窒素、アルゴン等も用いられ、すべてのガス類がすべて低温の液体として保存されるため、[[高圧ガス]]の取り扱いに関する注意が必要である。他に洗浄工程、加工工程で強酸、強アルカリを使用するので、これらも注意が必要である。