「ASIC」の版間の差分

ASICは半導体種別として多様であるばかりでなく、半導体プロセス技術の世代においても幅の広い世代を使用している。例えば、台湾 {{lang|en|Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd.}}は2008年末から40nmプロセスでの生産を開始しており、台湾 {{lang|en|United Microelectronics Corp.}}（UMC）は45nmプロセスでの試作製造に成功し、中国 {{lang|en|Semiconductor Manufacturing International Corp.}}（SMIC）は2009年から45nmプロセスでの生産を準備中といった具合で、ASICを手がける世界的なファンウンドリーの多くが、米インテル社や米AMD社、米{{lang|en|NVIDIA}}社などが使用する最新のプロセス技術からは1世代ほど遅れながらもしっかり追随しているが、その一方では例えば、台湾UMCでも、2008年第3四半期での全売上高に占めるプロセス世代での割合は、65nm世代では7%しかなく、90nm世代で31%、130nm世代で20%、150nmで21%、250-350nm世代で16%、500nm以上の世代でも5%もあった。これは、よく言われるように最新のプロセス技術はマスク代だけでも高価であり、例えば65nmでは1セットで100万米ドル弱であるのに、130nmではマスク代に設計・試験・検証のコストを加えファウンドリーへ支払う開発コストまで含めても40万米ドルで済むため、最先端のプロセス技術による高性能化が求められず、従来製品の細かな修正で済むASIC製品には古くは7世代も前のプロセスを使用しているのが現状である<ref group="出典">木村雅秀著　『ASICの微細化に急ブレーキ 45nm世代で壁に直面』　「日経エレクトロニクス 2009年3月9日号」　p.94-98</ref>。

== 出典脚注 ==