「極端紫外線リソグラフィ」の版間の差分

'''極端紫外線リソグラフィ''' (Extreme ultraviolet lithography、略称：'''EUVリソグラフィ''' または '''EUVL''としても知られる') は、[[紫外線#紫外線の波長ごとの特徴|極端紫外線]]を用いるもので、その波長は13.5 [[ナノメートル|nm]]に達て露光する次世代[[フォトリソグラフィ|リソグラフィ]] 技術である。