「ノボラック」の版間の差分
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[[ファイル:novolak.png|thumb|ノボラックの構造モデル]]
'''ノボラック'''（novolak）は反応物質の[[酸]][[縮合重合|縮合]]によって得られる[[ホルムアルデヒド]]-[[フェノール]]比が1:1より小さい[[フェノール樹脂]]である。ノボラックは
[[ジアゾナフトキノン]]といった光感受性物質と組み合わせることにより、[[フォトリソグラフィ]]工程で使用される[[フォトレジスト]]として[[マイクロエレクトロニクス]]や[[マイクロマシン]]分野で使用されている。露光されなかった部分のノボラックが表面に残り、次の工程（[[イオン注入]]、金属のガルバニック成長、{{仮リンク|熱酸化|en|Thermal oxidation}}、[[エッチング]]等）から回路基盤を保護する。
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