「窒化ケイ素」の版間の差分

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m 窒化ケイ素の熱伝導について
m 窒化ケイ素の製造方法・強度に関する編集
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そのため、焼結助剤を添加した上でガス圧焼結炉で焼結することで焼結体の製造を行われるのがほとんどである。
 
大半の窒化ケイ素セラミックスは、α-窒化ケイ素を原料として製造されている。
 
焼結時のα相からβ相への相転移の際に、β相の柱状粒子が析出・成長し、
 
異方的な材料組織を構築する。この異方的な材料組織を持つことから、
 
他セラミックスと比較して、非常に優れた破壊靭性を持っている。
 
また、規則的な結晶構造を持つため、高熱伝導材料としてのポテンシャルを秘めているが、
 
焼結助剤により形成されるガラス相での熱の散乱などから、実際や不純物熱伝導率は20W/mk程度である。固溶によって、
 
熱伝導率は20~90W/mk程度であるが、近年では、120W/mkの熱伝導率を持つ窒化ケイ素基板の開発が報告されている。
主な種類として、以下の3種類があげられる。
* sintered silicon nitride (SSN)-焼結窒化ケイ素
* gas pressure sintered silicon nitride (GPSSN)-ガス圧力焼結窒化ケイ素
* hot-pressed silicon nitride (HPSN)-熱処理プレス加工した窒化ケイ素
 
== 用途 ==
非常に硬質であることなど、優れた機械硬度、力学的特性を持つことから[[ベアリング]]、タービンブレード、切削工具などに応用されている。
 
== 関連項目 ==