「ジアゾナフトキノン」の版間の差分

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==用途==
ジアゾナフトキノンスルホン酸エステルは半導体製造のための[[フォトレジスト]]材料の構成要素としてg線やi線等の[[水銀]]ランプによる露光で一般的に使用されて
いる<ref>{{cite web|url=httphttps://ntp.niehs.nih.gov/filesntp/htdocs/chem_background/exsumpdf/Photoresists_DNQcmpds2photoresists_dnqcmpds2_508.pdf|title= Chemical Information Review Document for Diazonaphthoquinone Derivatives Used in Photoresists|publisher= National Toxicology Program|date=2006-01| format=PDF|accessdate=2011-01-19}}</ref>。この応用では、DNQ類はフェノールポリマーの一種である[[ノボラック]]樹脂と混合される。DNQは溶解阻害剤として機能する。マスキング/パターニング過程では、フォトレジストフィルムの一部が光に曝される。レジストフィルムの露光されなかった部分ではDNQは溶解阻害剤として作用し、レジストは不溶性を保つ。露光された部分では、DNQはケテンを形成する、つまり周囲の水と反応して[[塩基]]に可溶な[[カルボン酸]]を形成する。
 
==脚注==