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'''レジスト'''とは、主に工業用途で使用される、物理的、化学的処理に対する保護膜、及びその形成に使用される物質である。
 
諸般の製造プロセス内で、[[サンドブラスト]]、[[イオン注入]]、[[エッチング]]などの処理を施す際、被処理物表面の一部を樹脂などで保護し、処理をしたあとに保護膜を剥離することで、被処理物の所望の部分のみを処理することができる。この手法に使われる保護膜をレジストという。処理に耐える (resist) 事からこの名がついた。用途や塗り分け(パターニング)方法で幾種類かに分類される
用途や塗り分け(パターニング)方法で幾種類かに分類される。
 
==フォトレジスト (パターニング方法による分類)==
感光性を持ち、[[フォトリソグラフィ]]工程で使用されるレジスト。大量生産される製品に使用されるレジストは、ほとんどが[[フォトレジスト]]である。一般的な使用方法としては、スピンコーターやスリットコーター等で薄膜状に塗布し、光や電子線を部分的に照射して溶解性を変化させ、その後現像によって不要な部分を除去する。[[製版]]、[[プリント基板]]、[[半導体]]ウェハーなどの製造に使用される。
 
==スクリーン印刷レジスト (塗布・パターニング方法による分類)==
 [[スクリーン印刷]]を用いてパターニングされるレジスト。露光・現像・リンスといった工程を経る[[フォトリソグラフィ]]に比して、直接必要な部分にのみ樹脂を印刷するため、比較的無駄が少なくまた大面積にも対応し易い。さらに、重ね塗りすることで厚い膜を作るのにも適している。量産性にも優れてはいるが、微細構造には対応できない。 プリント基板配線等で主に用いられる。
[[スクリーン印刷]]を用いてパターニングされるレジスト。
 露光・現像・リンスといった工程を経る[[フォトリソグラフィ]]に比して、直接必要な部分にのみ樹脂を印刷するため、比較的無駄が少なくまた大面積にも対応し易い。さらに、重ね塗りすることで厚い膜を作るのにも適している。量産性にも優れてはいるが、微細構造には対応できない。 プリント基板配線等で主に用いられる。
 
==エッチングレジスト (用途による分類)==
[[エッチング]]時の部分的保護(マスク)に用いられるレジスト。耐アルカリ・耐酸性等、エッチング時の処理薬品に応じて選択される。[[フォトレジスト]]の代表的な用途の一つである
耐アルカリ・耐酸性等、エッチング時の処理薬品に応じて選択される。
[[フォトレジスト]]の代表的な用途の一つである。
 
==めっきレジスト (用途による分類)==
[[めっき]]時の部分的保護(マスク)に用いられるレジスト。レジストが無い部分にのみメッキする事ができ、回路の配線など金属を自在にパターニングできる。耐薬品性等、めっき前処理、及びめっき処理時の処理薬品に応じて選択される。
耐薬品性等、めっき前処理、及びめっき処理時の処理薬品に応じて選択される。
 
==ソルダーレジスト (使用目的による分類)==
プリント基板の[[はんだ付け]]しない部分に塗布し、はんだブリッジによる[[短絡]](ショート)を防止するなど回路を保護する役目を持つ。この場合、はんだ付け後に剥離せず、そのまま絶縁膜として用いる。色は[[緑]]色が多いが近年は様々な色がある。通称SR (Soldersolder Resistresist)、ソルダーマスク。LPSM (Liquidliquid photoimageable solder mask)、DFSM (Drydry film photoimageable solder mask) など種類がある。
 
<!-- とりあえずコメントアウトします。どうしましょうか…
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== register(動詞)/registration(名詞) ==
 
* [[コンピュータ]]ソフトウェア等における、使用許諾・ユーザ登録の事(レジストレーションの略)。この用法で通用するようになって、まだ年月は浅い。[[シェアウェア]]などで使用されている。
-->
 
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