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[[:en: Integrated device manufacturer |IDM]]や[[ファウンドリ]]などの半導体メーカーは、[[ムーアの法則]]に従い、製造するIC([[集積回路]])を年々微細化する。ICの製造工程では、30から40回[[シリコンウェハー]]に露光するため、露光機の性能がICの性能を左右すると言っても過言ではない。その為、ASMLは継続的に研究開発を行っている<ref>{{cite web|url=http://jp.wsj.com/articles/SB11248959841534934584204582351212992525898|title=ASMLの半導体技術、「ムーアの法則」維持できるか|accessdate=2017-01-02|date=2016-10-03|publisher=ウォール・ストリート・ジャーナル}}</ref>。
 
近年の露光機には、光源に[[紫外線]]を発するArF[[エキシマレーザー]]が使用されており、さらに[[液浸]]露光技術が用いられる。20072019年には液浸露光装置の[[分解能 |解像度]]が3713[[ナノメートル]]に達した。<ref name="ASMLの歴史">{{Cite web|title=ASMLの歴史 |url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=JA&ctx=43436&rid=43443 |accessdate=2012-07-20}}</ref>
 
光学系は[[カール・ツァイス]]が供給し、[[蛍石]]や[[石英]]が[[レンズ]]に使用されている。近年では反射鏡を組み合わせた光学系もある。
 
== 世界シェア・ランキング ==
売上高ベースで20072019年のASML露光装置の世界シェアは65%。81.2%である<ref>http:{{Cite book|title=世界半導体製造装置・試験//www.asml.com/asml/show.do?ctx検査装置市場年鑑2019|date=40715&rid2019年|year=2019年|publisher=40723グローバルネット株式会社}}</ref> 1996年は日本の[[ニコン]]が約50%弱、[[キヤノン]]が約25%のシェアを獲得していた。
 
2008年の[[半導体・製造装置メーカー売上高ランキング|半導体製造装置メーカーランキング]](VLSI Researchによる)では、[[東京エレクトロン]]を抜き2位に浮上し、<ref>https://www.vlsiresearch.com/public/cms_pdf_upload/pdf_file_1237312663.htm</ref> 2011年の同ランキングでは[[アプライド・マテリアルズ]]を抜き、初めて1位となった。<ref>https://www.vlsiresearch.com/public/cms_pdf_upload/706001v1.0.htm</ref>
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