「ASML」の版間の差分

m
近年の露光機には、光源に[[紫外線]]を発するArF[[エキシマレーザー]]が使用されており、さらに[[液浸]]露光技術が用いられる。2019年には液浸露光装置の[[分解能 |解像度]]が13[[ナノメートル]]に達した。<ref name="ASMLの歴史">{{Cite web|title=ASMLの歴史 |url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=JA&ctx=43436&rid=43443 |accessdate=2012-07-20}}</ref>
 
光学系は[[カール・ツァイス]]が供給し、[[蛍石]]や[[石英]]が[[レンズ]]に使用されている。近年では反射鏡を組み合わせた光学系もある。カール・ツァイスはかつて2000年代初頭自社の半導体関係のビジネスを子会社であるSMTに分社化していて、このSMTには近年ASMLが資本参加している。なお光源は2012年買収したアメリカのサイマーから前から調達している。そういう経緯で一時国内外から[[オープンイノベーション]]の成功例と言われたASMLが現在は技術の囲い込みを達成しているほど、[[ニコン]]などの日本勢の特徴だった技術の自己負担主義との区別がつかない現状になっている。
 
== 世界シェア・ランキング ==
* 1988年 スピンオフし独立した企業となり、旧社名の省略形のASMLを社名とする
* 1995年 [[アムステルダム証券取引所]]および[[NASDAQ|ナスダック]]に上場<ref name="ASMLの歴史" />
* 2001年 エーエスエムエル・ジャパン株式会社を設立。同年12月[[ニコン]]が同社をから提訴される
* 2004年8月にArF液浸露光装置の第1世代機(試作機)「AT:1150i」出荷
* 2004年 第2世代機(先行量産機)「XT:1250i」出荷
* 2012年 アメリカの同業サイマーを買収<ref>{{cite web|url=http://news.mynavi.jp/news/2012/10/17/108/|title=ASML、半導体向けEUVリソグラフィの開発を促進に向けCymerを買収|accessdate=2017-01-02|date=2012-10-17|publisher=マイナビニュース}}</ref>
* 2016年 台湾の漢民微速科技を買収<ref>{{cite web|url=https://www.bloomberg.co.jp/news/articles/2016-06-16/O8U8RP6S973201|title=蘭ASMLが台湾の漢民微測科技を買収へ-約3260億円で|accessdate=2017-01-02|date=2016-06-16|publisher=ブルームバーグ}}</ref>
* 2017年 ニコンからまた同社を提訴される
* 2019年 ニコンとの和解成立<ref>{{Cite web|title=Nikon {{!}} ニュース {{!}} 報道資料:ニコン、ASML、Carl Zeiss間における全ての訴訟手続の和解合意について|url=https://www.nikon.co.jp/news/2019/0123_01.htm|website=www.nikon.co.jp|accessdate=2020-09-09}}</ref>
 
* [[国際半導体技術ロードマップ]]
*[[Interuniversity Microelectronics Centre|IMEC]]
*[[極端紫外線リソグラフィ]]
* [[:en: Multiple patterning | Multiple Patterning]] {{En icon}}
* [[:en: Extreme ultraviolet lithography | EUV Lithography]] {{En icon}}
141

回編集