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[[:en: Integrated device manufacturer |IDM]]や[[ファウンドリ]]などの半導体メーカーは、[[ムーアの法則]]に従い、製造するIC([[集積回路]])を年々微細化する。ICの製造工程では、30から40回[[シリコンウェハー]]に露光するため、露光機の性能がICの性能を左右すると言っても過言ではない。その為、ASMLは継続的に研究開発を行っている<ref>{{cite web|url=http://jp.wsj.com/articles/SB11248959841534934584204582351212992525898|title=ASMLの半導体技術、「ムーアの法則」維持できるか|accessdate=2017-01-02|date=2016-10-03|publisher=ウォール・ストリート・ジャーナル}}</ref>。
 
ASMLは[[液浸]]の採用によって2003年以降、躍進した<ref name="ekishin">[http://eetimes.jp/ee/articles/1608/30/news022_2.html F2スキャナーからArF「液浸」スキャナーへの大逆転]</ref>。一方、現代の液浸露光技術に関する核心特許はニコンが保有していて両社の間には最近の2019年まで様々な法的紛争が行っていた。2006年に出荷された「XT:1700i」は45nm世代の量産に向けたArF液浸スキャナーで、光学系の開口数(N.A.)が1.20と、初めてこれまでの限界とされてきた1.00を超えた<ref name="ekishin" />。
 
近年の露光機には、光源に[[紫外線]]を発するArF[[エキシマレーザー]]が使用されており、さらに[[液浸]]露光技術が用いられる。2019年には液浸露光装置の[[分解能 |解像度]]が13[[ナノメートル]]に達した。<ref name="ASMLの歴史">{{Cite web|title=ASMLの歴史 |url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=JA&ctx=43436&rid=43443 |accessdate=2012-07-20}}</ref>
光学系は[[カール・ツァイス]]が供給し、[[蛍石]]や[[石英]]が[[レンズ]]に使用されている。近年では反射鏡を組み合わせた光学系もある。カール・ツァイスは2000年代初頭自社の半導体関係のビジネスを子会社であるSMTに分社化していて、このSMTには近年ASMLが資本参加している。なお光源は2012年買収したアメリカのサイマーから前から調達している。そういう経緯で一時国内外から[[オープンイノベーション]]の成功例と言われたASMLが現在は技術の囲い込みを達成しているほど、[[ニコン]]などの日本勢の特徴だった技術の自己負担主義との区別がつかない現状になっている。
 
ASMLは2020年(令和2年)現在、世界唯一の[[極端紫外線リソグラフィ]]装置メーカーである。同装置の価格は1台当100億円に達する<ref>{{Cite web|title=Our technology - Supplying the semiconductor industry|url=https://www.asml.com/en/technology|website=www.asml.com|accessdate=2020-09-09|language=en|publisher=|quote=}}</ref>
 
== 世界シェア・ランキング ==
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