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近年の露光機には、光源に[[紫外線]]を発するArF[[エキシマレーザー]]が使用されており、さらに[[液浸]]露光技術が用いられる。2019年には液浸露光装置の[[分解能 |解像度]]が13[[ナノメートル]]に達した<ref name="ASMLの歴史">{{Cite web|title=ASMLの歴史|url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=JA&ctx=43436&rid=43443|accessdate=2012-07-20}}</ref>。
 
光学系は[[カール・ツァイス]]が供給し、[[蛍石]]や[[石英]]が[[レンズ]]に使用されている。近年では反射鏡を組み合わせた光学系もある。カール・ツァイスは2000年代初頭に自社の半導体関係のビジネスを子会社であるSMTに分社化していて、このSMTには近年ASMLが資本参加している<ref>{{Cite web|title=ASML、独光学機器大手系に1100億円出資|url=https://www.nikkei.com/article/DGXLASGM04H08_U6A101C1EAF000/|website=日本経済新聞 電子版|accessdate=2020-09-18|date=2016-11-04|language=ja}}</ref>。なお光源は2012年買収したアメリカの[[サイマー]]([[:en:Cymer|英]])から前から調達されている。一時国内外から[[オープンイノベーション]]の成功例と言われたASMLがそういう経緯で今は技術の囲い込みを達成しているほど、ニコンなどの日本勢の特徴である自前主義との区別がつかない現状になっている。
 
== 世界シェア・ランキング ==
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