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* 1988年 スピンオフし独立した企業となり、旧社名の省略形のASMLを社名とする
* 1995年 [[アムステルダム証券取引所]]および[[NASDAQ|ナスダック]]に上場<ref name="ASMLの歴史" />
* 2000年 アメリカの同業SVGを買収した事によって最大の半導体メーカー米[[インテル]]へのアクセスを確保、一気にシェアが増える
* 2001年 エーエスエムエル・ジャパン株式会社を設立。同年12月[[ニコン]]が特許侵害でASMLを提訴(2004年に和解)<ref>{{cite web|url=https://www.itmedia.co.jp/news/articles/0409/29/news099.html|title=ニコン、ステッパー特許訴訟でASMLと和解|accessdate=2020-09-15|date=2004-09-29|publisher=ITmedia News}}</ref>
* 2004年8月にArF液浸露光装置の第1世代機(試作機)「AT:1150i」出荷
* 2004年 第3世代機(量産機)「XT:1400i」出荷
* 2006年 第4世代機(量産機)「XT:1700i」出荷
* 2012年 次世代露光技術である極端紫外線の開発の加速化のため、世界半導体大手の3社インテル、サムスン、TSMCから約50億ドルの投資を受け入れる。ニコンの長いパートナーであるインテルが6割の30億ドルを担う事になる<ref>{{Cite web|title=Samsung、ASML株の3%を6億3000万ドルで取得へ|url=https://eetimes.jp/ee/articles/1208/29/news032.html|website=EE Times Japan|accessdate=2020-12-01|language=|publisher=}}</ref>。ニコンは同技術の実用化と普及が起こる可能性が低いと判断してて、程無くその開発から撤退する 同年 アメリカのサイマーを買収<ref name=":1">{{cite web|url=http://news.mynavi.jp/news/2012/10/17/108/|title=ASML、半導体向けEUVリソグラフィの開発を促進に向けCymerを買収|accessdate=2017-01-02|date=2012-10-17|publisher=マイナビニュース}}</ref>
* 2016年 台湾の漢民微速科技を買収<ref>{{cite web|url=https://www.bloomberg.co.jp/news/articles/2016-06-16/O8U8RP6S973201|title=蘭ASMLが台湾の漢民微測科技を買収へ-約3260億円で|accessdate=2017-01-02|date=2016-06-16|publisher=ブルームバーグ}}</ref>
* 2017年 ニコンがASMLを再び特許侵害で提訴<ref name=":0">{{cite web|url=https://www.nikon.co.jp/news/2017/0424_01.htm|title=ASMLおよびCarl Zeissに対する半導体露光装置に関する特許侵害訴訟の提起について|accessdate=2020-09-15|date=2017-04-24|website=www.nikon.co.jp}}</ref>
*2018年 極端紫外線初の量産機「NXE:3400B」の本格的な出荷と使用の開始
* 2019年 ニコンとの和解成立<ref>{{Cite web|title=Nikon {{!}} ニュース {{!}} 報道資料:ニコン、ASML、Carl Zeiss間における全ての訴訟手続の和解合意について|url=https://www.nikon.co.jp/news/2019/0123_01.htm|website=www.nikon.co.jp|accessdate=2020-09-09}}</ref>
 
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