「ASML」の版間の差分

編集の要約なし
|代表者=
|資本金=
|売上高={{profit}} 56億5103万ユーロ (2011年)<ref name="annualreport2011_5yr_overview">{{Cite web|title=Five-Year Financial Summary in Annual Report 2011 |url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=EN&ctx=45358&dfp_fragment=usgaap_5year |accessdate=2012-07-19}}</ref>
|純利益={{profit}} 14億6696万ユーロ (2011年)<ref name="annualreport2011_5yr_overview" />
|総資産=72億6081万ユーロ (2011年)<ref name="annualreport2011_5yr_overview" />
|従業員数= 19,216人 (2017年)
|決算期=
|主要株主=
|主要子会社=
|関係する人物=
|外部リンク= [https://www.asml.com/en 公式ウェブサイト]
|特記事項=
}}
 
== 概要 ==
[[:en: Integrated device manufacturer |IDM]]や[[ファウンドリ]]などの半導体メーカーは、[[ムーアの法則]]に従い、製造するIC([[集積回路]])を年々微細化する。ICの製造工程では、30から40回[[シリコンウェハー]]に露光するため、露光機の性能がICの性能を左右すると言っても過言ではない。その為、ASMLは継続的に研究開発を行っている<ref>{{cite web|url=http://jp.wsj.com/articles/SB11248959841534934584204582351212992525898|title=ASMLの半導体技術、「ムーアの法則」維持できるか|accessdate=2017-01-02|date=2016-10-03|publisher=ウォール・ストリート・ジャーナル}}</ref>。
 
ASMLは[[液浸]]の採用によって2003年以降、躍進した<ref name="ekishin">[http://eetimes.jp/ee/articles/1608/30/news022_2.html F2スキャナーからArF「液浸」スキャナーへの大逆転]</ref>。一方、現代の液浸露光技術に関する基本特許は[[ニコン]]が保有していて両社の間には最近の2019年まで様々な法的紛争が起きていた。2006年に出荷された「XT:1700i」は45nm世代の量産に向けたArF液浸スキャナーで、光学系の開口数(N.A.)が1.20と、初めてこれまでの限界とされてきた1.00を超えた<ref name="ekishin" />。
 
近年の露光機には、光源に[[紫外線]]を発するArF[[エキシマレーザー]]が使用されており、さらに[[液浸]]露光技術が用いられる。2019年には液浸露光装置の[[分解能 |解像度]]が13[[ナノメートル]]に達した<ref name="ASMLの歴史">{{Cite web|title=ASMLの歴史|url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=JA&ctx=43436&rid=43443|accessdate=2012-07-20}}</ref>。
 
また、ASMLは2020年(令和2年)現在、世界唯一の[[極端紫外線リソグラフィ]](EUVL)装置メーカーである。同装置は7nmノード以下の露光が可能である。同装置の価格は1台当240億円に達する<ref>{{Cite news|title=ASML first quarter net profit misses estimates, 2020 targets still achievable|url=https://www.reuters.com/article/asml-results-idINKCN21X0VJ|work=Reuters|date=2020-04-15|accessdate=2020-10-15|language=en|first=Toby|last=Sterling}}</ref>。
 
== 世界シェア・ランキング ==
売上高ベースで2019年のASML露光装置の世界シェアは81.2%2%である<ref>{{Cite book|title=世界半導体製造装置・試験/検査装置市場年鑑2019|date=2019年|year=2019|publisher=グローバルネット株式会社}}</ref>。1996年は日本のニコンが約50%50%弱、[[キヤノン]]が約25%25%のシェアを獲得していた。ASMLは2002年に初めて同ベースで1位となった。
 
露光装置の内訳を見ると、EUVで世界シェア100%、ArF液浸で97%、Krfで65%(201865%(2018年、売上高ベース<ref>{{Cite web|title=特集:EUV露光装置が織り成す半導体革命(レーザーテック、東京エレクトロン、アドバンテスト)|url=https://media.rakuten-sec.net/articles/-/25984|website=トウシル 楽天証券の投資情報メディア|accessdate=2020-11-25|language=ja|first=今中|last=能夫}}</ref>)と光分解能の露光装置では圧倒的なシェアを獲得している。
 
2008年の[[半導体・製造装置メーカー売上高ランキング|半導体製造装置メーカーランキング]](VLSI Researchによる)では、[[東京エレクトロン]]を抜き2位に浮上し<ref>{{PDFlink|[https://www.vlsiresearch.com/public/cms_pdf_upload/pdf_file_1237312663.htmpdf 2008 Top Ten IC and Related Equipment Suppliers]}} VLSIresearch</ref> 、2011年の同ランキングでは[[アプライド・マテリアルズ]]を抜き、初めて1位となった<ref>{{PDFlink|[https://www.vlsiresearch.com/public/cms_pdf_upload/706001v1.0.htmpdf 2011 Top Semiconductor Equipment Suppliers]}} VLSIresearch</ref>。
 
== 沿革 ==
* 1984年 [[フィリップス]]社と[[ASMインターナショナル]]社がそれぞれ50%50%ずつ出資する合弁会社{{lang|en|ASM Lithography}}として設立<ref name="ASMLの歴史" />
* 1988年 スピンオフし独立した企業となり、旧社名の省略形のASMLを社名とする
* 1995年 [[アムステルダム証券取引所]]および[[NASDAQ|ナスダック]]に上場<ref name="ASMLの歴史" />
* 2004年 第3世代機(量産機)「XT:1400i」出荷
* 2006年 第4世代機(量産機)「XT:1700i」出荷
* 2012年 次世代露光技術の一つである極端紫外線の開発の加速化のため、世界半導体大手の3社インテル、サムスン、TSMCから約50億ドルの投資を受け入れる。ニコンと長いパートナー関係のインテルが6割の30億ドルを担う事になる<ref>{{Cite web|title=Samsung、ASML株の3%を6億3000万ドルで取得へ|url=https://eetimes.jp/ee/articles/1208/29/news032.html|website=EE Times Japan|accessdate=2020-12-01|language=|publisher=}}</ref> 。ニコンは同技術の普及が起こる可能性が低いと判断し、2010年代初頭に開発から撤退した
* 同年 アメリカのサイマーを買収<ref name=":1">{{cite web|url=http://news.mynavi.jp/news/2012/10/17/108/|title=ASML、半導体向けEUVリソグラフィの開発を促進に向けCymerを買収|accessdate=2017-01-02|date=2012-10-17|publisher=マイナビニュース}}</ref>
* 2016年 台湾の漢民微速科技を買収<ref>{{cite web|url=https://www.bloomberg.co.jp/news/articles/2016-06-16/O8U8RP6S973201|title=蘭ASMLが台湾の漢民微測科技を買収へ-約3260億円で|accessdate=2017-01-02|date=2016-06-16|publisher=ブルームバーグ}}</ref>
* 2017年 ニコンがASMLを再び特許侵害で提訴<ref name=":0">{{cite web|url=https://www.nikon.co.jp/news/2017/0424_01.htm|title=ASMLおよびCarl Zeissに対する半導体露光装置に関する特許侵害訴訟の提起について|accessdate=2020-09-15|date=2017-04-24|website=www.nikon.co.jp}}</ref>
* 2018年 極端紫外線初の量産機「NXE:3400B」の本格的な出荷と使用の開始
* 2019年 ニコンとの和解成立<ref>{{Cite web|title=Nikon {{!}} ニュース {{!}} 報道資料:ニコン、ASML、Carl Zeiss間における全ての訴訟手続の和解合意について|url=https://www.nikon.co.jp/news/2019/0123_01.htm|website=www.nikon.co.jp|accessdate=2020-09-09}}</ref>
 
* [[国際半導体技術ロードマップ]]
* [[Interuniversity Microelectronics Centre|IMEC]]
* [[極端紫外線リソグラフィ]]([[:en: Extreme ultraviolet lithography |英]])
* [[:en: Multiple patterning | Multiple Patterning]] {{En icon}}
 
== 外部リンク ==