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[[半導体素子|半導体]]や[[液晶ディスプレイ]]の製造に用いる露光装置である[[ステッパー]](縮小投影型露光装置)を[[1980年]](昭和55年)に日本で初めて製品化し、以後日本および世界市場で事業を行っている。
半導体露光装置においては、[[1983年]](昭和58年)以後売上高・出荷台数で世界トップとなって、[[1989年]](平成元年)の頃には既に世界シェアが8割
日本から提案された次世代露光技術の一つである[[極端紫外線リソグラフィ|極端紫外線]](EUV)の開発を進めていたが、「[[コンコルド効果|コンコルドの誤謬]]」に鑑み、収益性を重視する姿勢で2010年代初頭に同開発から撤退した<ref>{{Cite web|title=ニコン次期社長 牛田 一雄氏 (61)|url=https://www.nikkei.com/article/DGKDZO71360070X10C14A5TJ1000|website=日本経済新聞|date=2014-05-17|accessdate=2020-12-01|language=|publisher=}}</ref>。一方で、ASMLは米国官民が行った開発プロジェクト(EUV LLC)に参加出来た事で同開発を開始し、2010年代からは社運を賭けてEUVの実用化に向けた結果、2017年から量産機を出荷している。
[[2016年]](平成28年)には、半導体露光装置事業などで人員削減と
液晶ディスプレイの製造に用いるFPD露光装置のシェアは金額ベースで58%と高シェアを獲得している<ref>{{Cite web|title=ライジングチャイナ、岐路に立つFPD業界(3) 日本勢が大活躍するFPD製造装置市場|url=https://news.mynavi.jp/article/dscc2019-3/|website=マイナビニュース|date=2019-10-25|accessdate=2020-11-25|language=ja}}</ref>。
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