「ニコン」の版間の差分

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[[半導体素子|半導体]]や[[液晶ディスプレイ]]の製造に用いる露光装置である[[ステッパー]](縮小投影型露光装置)を[[1980年]](昭和55年)に日本で初めて製品化し、以後日本および世界市場で事業を行っている。
 
半導体露光装置においては、[[1983年]](昭和58年)以後売上高・出荷台数で世界トップとなって、[[1989年]](平成元年)の頃には既に世界シェアが8割以上、同事業がニコンの売上高に占める比率は4割になっていた。しかし2000年代以降には、日本勢の独走に危機感を覚えたアメリカの支援を受けて一連の技術導入や企業買収などによって成長した[[オランダ]]の[[ASML]]社に押されている。ASMLはまた、日米半導体協定によって成長したアジアの新興半導体メーカーと連動した。[[2003年]](平成15年)度出荷台数で世界シェア44%([[ガートナー]]調べ)と首位の座を占めていたニコンだが、[[2019年]](令和元年)の出荷額ベースのシェアはASMLが81.2%に対し、ニコンは5.9%である。半導体露光装置の内訳を見ると、ArF液浸で3%、Krfで4%、[[紫外線]]を用いたi線で10%(2018年、売上高ベース<ref>{{Cite web|title=特集:EUV露光装置が織り成す半導体革命(レーザーテック、東京エレクトロン、アドバンテスト)|url=https://media.rakuten-sec.net/articles/-/25984|website=トウシル 楽天証券の投資情報メディア|accessdate=2020-11-25|language=ja|first=今中|last=能夫}}</ref>)である。
 
日本から提案された次世代露光技術の一つである[[極端紫外線リソグラフィ|極端紫外線]](EUV)の開発を進めていたが、「[[コンコルド効果|コンコルドの誤謬]]」に鑑み、収益性を重視する姿勢で2010年代初頭に同開発から撤退した<ref>{{Cite web|title=ニコン次期社長 牛田 一雄氏 (61)|url=https://www.nikkei.com/article/DGKDZO71360070X10C14A5TJ1000|website=日本経済新聞|date=2014-05-17|accessdate=2020-12-01|language=|publisher=}}</ref>。一方で、ASMLは米国官民が行った開発プロジェクト(EUV LLC)に参加出来た事で同開発を開始し、2010年代からは社運を賭けてEUVの実用化に向けた結果、2017年から量産機を出荷している。
 
[[2016年]](平成28年)には、半導体露光装置事業などで人員削減とArF液浸新モデルの開発縮小を発表<ref>{{Cite web|title=カメラ以上に苦境の半導体装置。ニコン復活の切り札はあるか|ニュースイッチ by 日刊工業新聞社|url=https://newswitch.jp/p/8145|website=ニュースイッチ Newswitch|accessdate=2020-12-01|language=|publisher=}}</ref>。
 
液晶ディスプレイの製造に用いるFPD露光装置のシェアは金額ベースで58%と高シェアを獲得している<ref>{{Cite web|title=ライジングチャイナ、岐路に立つFPD業界(3) 日本勢が大活躍するFPD製造装置市場|url=https://news.mynavi.jp/article/dscc2019-3/|website=マイナビニュース|date=2019-10-25|accessdate=2020-11-25|language=ja}}</ref>。