ファイル:Anisotropic wet etching.svg
この SVG ファイルのこの PNG プレビューのサイズ: 300 × 175 ピクセル. その他の解像度: 320 × 187 ピクセル | 640 × 373 ピクセル | 1,024 × 597 ピクセル | 1,280 × 747 ピクセル | 2,560 × 1,493 ピクセル。
元のファイル (SVG ファイル、300 × 175 ピクセル、ファイルサイズ: 18キロバイト)
ファイルの履歴
過去の版のファイルを表示するには、その版の日時をクリックしてください。
日付と時刻 | サムネイル | 寸法 | 利用者 | コメント | |
---|---|---|---|---|---|
現在の版 | 2010年5月14日 (金) 21:27 | 300 × 175 (18キロバイト) | Inductiveload | {{Information |Description={{en|A diagram showing anisotropic wet etching in silicon, showing the undercut under the resist. The etch rate in the <111> direction is much slower (about 100× slower) than in the <100> direction.}} |Source={{own}} |Date=2010 |
ファイルの使用状況
以下のページがこのファイルを使用しています:
グローバルなファイル使用状況
以下に挙げる他のウィキがこの画像を使っています:
- en.wikipedia.org での使用状況
- sk.wikipedia.org での使用状況