ファイル:Photolithography etching process.svg
この SVG ファイルのこの PNG プレビューのサイズ: 120 × 600 ピクセル. その他の解像度: 48 × 240 ピクセル | 96 × 480 ピクセル | 153 × 768 ピクセル | 204 × 1,024 ピクセル | 409 × 2,048 ピクセル | 512 × 2,560 ピクセル。
元のファイル (SVG ファイル、512 × 2,560 ピクセル、ファイルサイズ: 8キロバイト)
ファイルの履歴
過去の版のファイルを表示するには、その版の日時をクリックしてください。
日付と時刻 | サムネイル | 寸法 | 利用者 | コメント | |
---|---|---|---|---|---|
現在の版 | 2022年4月17日 (日) 08:27 | 512 × 2,560 (8キロバイト) | Djiboun | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr. | |
2020年6月20日 (土) 13:18 | 512 × 2,560 (5キロバイト) | Mega deppa | Reverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC) | ||
2020年6月20日 (土) 13:16 | 512 × 2,560 (8キロバイト) | Mega deppa | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja. | ||
2011年10月9日 (日) 16:52 | 512 × 2,560 (5キロバイト) | Cmglee | Align text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg. | ||
2011年9月30日 (金) 22:03 | 512 × 2,560 (5キロバイト) | Cmglee | Merge develop and remove exposed photoresist. | ||
2011年9月29日 (木) 22:46 | 512 × 2,926 (5キロバイト) | Cmglee | Fix text alignment. | ||
2011年9月29日 (木) 22:39 | 512 × 2,926 (5キロバイト) | Cmglee | Fix text alignment. | ||
2011年9月29日 (木) 22:37 | 512 × 2,926 (5キロバイト) | Cmglee | Fix text alignment. | ||
2011年9月29日 (木) 22:30 | 512 × 3,413 (5キロバイト) | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date |
ファイルの使用状況
以下の 2 ページがこのファイルを使用しています:
グローバルなファイル使用状況
以下に挙げる他のウィキがこの画像を使っています:
- ar.wikipedia.org での使用状況
- ca.wikipedia.org での使用状況
- en.wikipedia.org での使用状況
- en.wikibooks.org での使用状況
- fa.wikipedia.org での使用状況
- fr.wikipedia.org での使用状況
- id.wikipedia.org での使用状況
- www.wikidata.org での使用状況