「化学気相成長」の版間の差分
削除された内容 追加された内容
m ロボットによる 追加: simple:Chemical vapor deposition |
→分類: +figures |
||
8行目:
== 分類 ==
[[Image:ThermalCVD-JP.PNG|thumb|right|200px|熱CVD装置の構成図]]
[[Image:PlasmaCVD-JP.PNG|thumb|right|200px|プラズマCVD装置の構成図]]
供給する化学種や求める特性などによって、様々なバリエーションが存在する。最も基本的なのは、化学反応の制御に熱を用いる[[熱CVD]]である。
|