「容量結合プラズマ」の版間の差分

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(en:Capacitively coupled plasma 03:34, August 8, 2008 (UTC) 版より翻訳)
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'''容量結合プラズマ'''(ようりょうけつごうプラズマ、Capacitively Coupled Plasma、略称CCP)は産業プラズマの中で最も一般的な種類の一つである。基本的に、それは装置内で短距離に隔てられた二枚の金属極板によって構成されている。装置内の気圧は大気圧より低いか大気圧と同程度の場合がある。
 
== 概要 ==
 
典型的な容量結合プラズマ装置は[[高周波]]電源(通常は13.56MHz<ref>[http://www.opsi.gov.uk/si/si1993/Uksi_19931591_en_2.htm UK Wireless Telegraphy (Short Range Devices) (Exemption) Regulations 1993]</ref>)を利用している。二枚の極板のうちの片方は[[高周波]]電源に繋がっており、もう片方はアースされている。原則的にこの構成が電気回路における[[コンデンサ]]と同様であるとき、このように形成された[[プラズマ]]のことを'''容量結合プラズマ'''と呼ぶ。
== 脚注 ==
{{reflist}}
 
{{DEFAULTSORT:ようりようけつこうふらすま}}
[[Category:分析化学]]
[[Category:プラズマ]]
 
[[en:Capacitively coupled plasma]]
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