「ウェットエッチング」の版間の差分

'''ウェットエッチング(wet etching)'''とは、[[半導体プロセス]]においてパターンを形成する際に、薬液を用いて[[エッチング]]を行うことである。それに対して、ガスを用いて[[エッチング]]を行うことる方法を[[ドライエッチング]]と言う。