「強誘電体メモリ」の版間の差分

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'''強誘電体メモリ'''(きょうゆうでんたいめもり・{{lang-en-short|Ferroelectric Random Access Memory}})とは、'''FeRAM'''とも呼ばれる、[[強誘電体]]の[[ヒステリシス]]([[ヒステリシス|履歴効果]])に因る正負の[[強誘電体|残留分極]]([[強誘電体|自発分極]])を[[デジタルデータ|データ]]の1と0に対応させた[[不揮発性メモリ]]のことである。'''FeRAM'''は'''FRAM'''とも呼ばれる事も有るが、これは[[ラムトロン・インターナショナル]]<!--{{仮リンク|en|Ramtron International}}-->(【現】[[サイプレス・セミコンダクター]]<!--{{仮リンク|en|Cypress Semiconductor}}--><ref name="acquired">{{Cite web|url=http://www.cypress.com/?rID=92567|title=Cypress Semiconductor has acquired Ramtron International Corporation|accessdate=2014年3月7日|last=|first=|author=|authorlink=|coauthors=|date=|year=|month=|format=|work=|publisher=|page=|pages=|quote=|language=[[英語]]|archiveurl=|archivedate=|deadlinkdate=|doi=|ref=}}</ref><!--Cypress Semiconductor-->)の[[商標]]として登録されており、[[富士通]]は同社との[[ライセンス]]により'''FRAM'''の[[名前|名称]]を使用している。
 
[[強誘電体]][[コンデンサ|膜]]の[[強誘電体|分極反転]][[時間]]は1[[ナノ|n]][[秒|s]]以下と速いためであり、'''FeRAM'''は[[Dynamic Random Access Memory|DRAM]]並みの高速動作が期待される。
 
==構造と動作原理==
'''FeRAM'''の[[セル]]には[[コンデンサ|キャパシター]]が用いられており、この意味においては、[[Dynamic Random Access Memory|DRAM]]と基本的に類似した[[セル]]である。しかし、この[[コンデンサ|キャパシター]]の[[電極|極]]板間の[[材料]]には[[強誘電体]]が用いられているという点で、'''FeRAM'''は[[Dynamic Random Access Memory|DRAM]]とは大きく異なる。
 
[[メモリセル]]<ref name="memory_cell">[[データ]]の最小単位である1[[ビット|bit]]を保持するために必要な[[電子回路|回路]]</ref>構成としては、'''FeRAM'''には大きく分けて2種類が提案されている。具体的には、[[強誘電体]][[コンデンサ|キャパシター]](C)と[[メモリセル]]<ref name="memory_cell" />選択用の[[MOSFET]](T)を組み合わせる方法('''1T1C型'''又は'''キャパシター型''')と[[ゲート絶縁膜]]が[[強誘電体]]からなる[[金属|M]][[強誘電体|F]][[半導体|S]][[電界効果トランジスタ|FET]]を用いる方法('''1T型'''又は'''トランジスター型''')と[[強誘電体]][[コンデンサ|キャパシター]](C)と[[メモリセル]]<ref name="memory_cell" />選択用の[[MOSFET]](T)を組み合わせる方法('''1T1C型'''又は'''キャパシター型''')である。これら2種類においては'''1T1C型'''の方が動作信頼性が高い。なお、'''1T1C型'''は[[Dynamic Random Access Memory|DRAM]]と同じ[[メモリセル]]<ref name="memory_cell" />構成である。これらをベースにした'''2T2C型'''も使われており、これは2つの[[コンデンサ|キャパシター]]を逆向きに[[誘電分極|分極]]させることで[[データ]]の信頼性を高めている。
 
'''FeRAM'''では、[[電界効果トランジスタ|FET]]をオンさせただけではビット線には[[データ]]は出力されない。何故ならば、[[セル]]である[[コンデンサ|キャパシター]]に[[電圧]]が印加されない状態では、[[セル]]に記憶されている[[データ]]が1であるか0であるかは[[強誘電体]][[コンデンサ|膜]]中に保存されているので、それを読み出すにはソースプレートを駆動して[[コンデンサ|キャパシター]]に[[電圧]]を印加して[[強誘電体]][[コンデンサ|膜]]中の[[誘電分極|分極]]を外部に[[電気素量|電荷量]]として読み出さなければならないからである。(これは読み出しに静電容量が極めて大きい[[セル]][[コンデンサ|キャパシター]]を駆動する[[時間]]を必要とすることも意味する。)従って、'''FeRAM'''においては、ワード線<!--({{lang-en-short|Word Line}})-->とビット線<!--({{lang-en-short|Bit Line}})-->以外にも、ソースプレート<!--({{lang-en-short|Source Plate}})-->の駆動線と特定の[[セル]]のそれを駆動するためのデコーダー[[論理回路|回路]]が必要となる。
 
これにって、'''FeRAM'''では[[セル]]の[[集積回路#微細化|微細化]]やアクセス速度の高速化においては、困難が伴う。これらの欠点を克服すべく、[[東芝]]が、'''ChainFeRAM'''と呼ばれる、新しい[[メモリセル]]<ref name="memory_cell" />構造の'''FeRAM'''を[[2001年]]に発表している<ref name="ChainFeRAM">{{Cite journal|和書|last=|first=|author=[[大脇幸人]]|authorlink=|coauthors=[[國島巌]]・[[山川晃司]]|date=2001-01|year=|month=|title=新不揮発性メモリChainFeRAM|journal=[[東芝レビュー]]|volume=56|issue=1|page=|pages=51-54|publisher=[[東芝]]|location=|issn=|doi=|naid=|id=|url=https://www.toshiba.co.jp/tech/review/2001/01/56_01pdf/b06.pdf|format=PDF|accessdate=|quote=}}</ref>。なお、'''ChainFeRAM'''は[[東芝]]の[[商標]]である。
 
{{Gallery|title='''FeRAM'''のメモリセル|width=384|height=288|lines=1
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|3=File:FeRAM 2T2C.jpg|4='''2T2C型'''
|5=File:FeRAM 2T2C chart.jpg|6='''2T2C型'''の[[タイミング図|タイミングチャート]]
|footer=[[回路図]]中の着[[]]部分は[[強誘電体]][[コンデンサ|キャパシター]]を示す。}}
<!--瑣末な事だが、図中の「プレート線」の表記はそもそも矛盾している。語源となった"plate"は「板」の意味で、レイアウト上でも実際に板状であるからこその「プレート」なのに、「線」の表記は可笑しい。-->
 
===1T型===
ビット線とソースプレートの間に[[電圧]]を印加して[[強誘電体]][[薄膜|膜]]を任意の[[方向]]に[[誘電分極|分極]]させる。その[[方向]]に依ってビット線に[[電圧]]を印加した際の[[電流]]が変わるので、これから[[セル]]である[[金属|M]][[強誘電体|F]][[半導体|S]][[電界効果トランジスタ|FET]]の[[ゲート絶縁膜]]に蓄積された[[データ]]を判定する。読み出し時に[[強誘電体]][[薄膜|膜]]の[[分極電荷]]は変化しないので非破壊読み出しであり、且つ、[[メモリセル]]<ref name="memory_cell" />の[[構造]]も単純で済む。しかし、現時点では、[[集積回路#微細化|微細化]]に伴う[[電界効果トランジスタ|FET]]の[[ゲート絶縁膜]]界面部分の[[リーク電流]]が大きくなるという問題を克服できておらず、実用化は困難である。
 
===1T1C型===
書き込み時にはワード線で[[セル]]である[[強誘電体]][[コンデンサ|キャパシター]]を選択し、ビット線とソースプレートの間に[[電圧]]を印加して[[強誘電体]][[薄膜|膜]]を[[誘電分極|分極]]させる。読み出し時には[[パルス]][[電圧]]を加えて[[誘電分極|分極]]反転による[[電流]]が流れたかどうかで[[セル]]に蓄えられた[[データ]]をセンスアンプで判定する。この時、[[誘電分極|分極]]は元の状態に依らずに[[電圧]]印加[[方向]]を向く(同[[方向]]ならば[[電流]]が流れず、反対[[方向]]ならば[[強誘電体|分極反転]]して[[電流]]が生じる。)ので、破壊読出しとなる。このため、読み出す時には必ず再書き込みを必要とするので、書き込み回数に読み出し回数も含まれる。
 
[[コンデンサ|キャパシター]][[薄膜|膜]]が[[常誘電体]]でなく[[強誘電体]]であるので、[[電界効果トランジスタ|FET]]に[[リーク電流]]が有ったり[[電源]]が遮断されても[[コンデンサ|キャパシター]]の[[電気素量|電荷量]]を失わない([[データ]]が消えない)。つまり、[[不揮発メモリ]]であると同時に[[Dynamic Random Access Memory#リフレッシュ|リフレッシュ]]が不要な為に[[消費電力]]が少ない。
 
===1T型===
ビット線とソースプレートの間に[[電圧]]を印加して[[強誘電体]][[薄膜|膜]]を任意の方向に[[誘電分極|分極]]させる。その方向に依ってビット線に[[電圧]]を印加した際の[[電流]]が変わるので、これから[[セル]]である[[金属|M]][[強誘電体|F]][[半導体|S]][[電界効果トランジスタ|FET]]の[[ゲート絶縁膜]]に蓄積された[[データ]]を判定する。読み出し時に[[強誘電体]][[薄膜|膜]]の[[分極電荷]]は変化しないので非破壊読み出しであり、且つ、[[メモリセル]]<ref name="memory_cell" />の構造も単純で済む。しかし、現時点では、[[集積回路#微細化|微細化]]に伴う[[電界効果トランジスタ|FET]]の[[ゲート絶縁膜]]界面部分の[[リーク電流]]が大きくなるという問題を克服できておらず、実用化は困難である。
 
===2T2C型===
'''1T1C型'''と同様にワード線によって[[セル]]の[[強誘電体]][[コンデンサ|キャパシター]]1を選択する。書き込みは同様にソースプレートの昇[[電圧|圧]]によって行なうが、この時に、対となっている[[強誘電体]][[コンデンサ|キャパシター]]2の[[電界効果トランジスタ|FET]]のビット線にも[[時間]]差を付けて昇[[電圧|圧]]する。このままではソースプレートを降[[電圧|圧]]した時点で対となっている側の[[強誘電体]][[コンデンサ|キャパシター]]2には負の[[電圧]]が印加されるため、書き込みを意図している[[強誘電体]][[コンデンサ|キャパシター]]1とは逆[[方向]]に[[強誘電体|残留分極]]が発生する。こうして互いに異なる向きの[[誘電分極|分極]]が形成されるため、「0・1」または「1・0」という組み合わせで[[データ]]を表す。
 
読み出し時も同様にワード線とソースプレートを昇[[電圧|圧]]して、ビット線のどちらの[[電圧]]の変化が大きいか(どちらに[[変位電流]]が流れるか)を測定することで[[データ]]を判定する。なお、この時に順[[方向]]の[[誘電分極|分極]]を持つ[[強誘電体]][[コンデンサ|キャパシター]]1でも[[電圧]]が変化するのは[[誘電分極|分極]]の微小変位によるものである。また、読み出し時に、[[強誘電体]][[コンデンサ|キャパシター]]2のワード線より先にソースプレートを降[[電圧|圧]]すると、負の[[電圧]]が印加されて再書き込みが行なわれ、読み出し時の[[データ]]破壊を防げる。
 
==強誘電体膜の材料==
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*小さい[[強誘電体|分極反転]]疲労(ファティーグ<!--fatigue-->)<ref name="fatigue">[[強誘電体|分極反転]]を繰り返すと[[強誘電体|残留分極]]が減少していく[[現象]]</ref>特性
:10年程度の動作保証性を実現するための目安として10<sup>12</sup>回(理想的には10<sup>15</sup>回)以上の[[強誘電体|分極反転]]に耐えられる
*小さいインプリント<!--imprint--><ref name="imprint">[[電場]]に因って、[[分極率]]-[[電圧]]特性が経時的にシフトする[[現象]](同一[[方向]]に複数回[[パルス]][[電圧]]を印加した後では逆[[方向]]の[[パルス]][[電圧]]を印加しても1回では完全に[[強誘電体|分極反転]]し難くなる。)</ref>特性
:書き込みエラーを減らせる
 
上記の条件を満たす[[材料]]として、下記の様な、従来の[[集積回路|半導体]]製造プロセスでは使用されていない[[セラミック]][[材料]]が存在する。これらの多くの[[強誘電体]][[材料]]では、[[誘電分極|分極]]が容易な[[光学軸|軸]]の[[方向]]に沿った異なる2つの[[誘電分極|分極]]状態を利用して[[データ]]の書き込みや読み出しを行っている。言い換えれば、[[強誘電体]][[結晶]]の多くは、[[結晶]]の[[対称性]]によってその[[誘電分極|分極]]状態の[[数]]は限られている。
 
====PZT====
'''[[チタン酸ジルコン酸鉛|Pb(Zr,Ti)O<sub>3</sub>]]''' ([[チタン酸ジルコン酸鉛]])
 
*他の[[学際|分野]]での実用化が進んでおり、成[[薄膜|膜]]方法の[[手続き的知識|ノウハウ]]が蓄積されている。
*[[強誘電体|残留分極]]量が、配向に依存して、25[[マイクロ|{{el}}]][[クーロン|C]]/[[センチメートル|cm]]<sup>2</sup>から100[[マイクロ|{{el}}]][[クーロン|C]]/[[センチメートル|cm]]<sup>2</sup>と大きく、高[[密度]]化に適している。
*[[結晶化]][[温度]]が550[[セルシウス度|°C]]と低く、[[集積回路]]の[[集積回路|半導体]]製造プロセスと相性が良い。
*[[人体]]に有害な[[鉛|Pb]]が含まれているため、[[環境基準]]に対応できない。
*高[[温度|温]]処理に耐えられる[[白金|Pt]]や[[金|Au]]などを[[電極]]に用いると疲労[[現象]]<ref name="fatigue" />が著しくなり、10<sup>7</sup>回以下の[[強誘電体|分極反転]]で[[強誘電体|残留分極]]が顕著に減少する。ただし、[[二酸化イリジウム|IrO<sub>2</sub>]]などの[[電極]][[材料]]を用いた場合は10<sup>12</sup>回以上の[[強誘電体|分極反転]]にも耐えられる。
 
本[[材料]]系では、従前、[[強誘電体|分極]][[ドメイン]]の[[ナノテクノロジー|ナノ構造化]]に拠って[[強誘電体|分極]]が容易な[[光学軸|軸]]の[[方向]]が[[結晶]]の[[対称性]]に束縛されず[[強誘電体|極]][[光学軸|軸]]が自由に[[回転 (ベクトル解析)|回転]]することが既に示されている。これは[[記録]][[密度]]が現状の従来に対して2[[位取り記数法|]]増大するという可能性を示している。
そして、[[2014年]]に、その[[強誘電体|分極]]自由[[回転 (ベクトル解析)|回転]]状態の書き込みと読み込みの実証が報告されている<ref name="PZT_paper">{{Cite journal|last=|first=|author=[[R. K. Vasudevan]]|authorlink=|coauthors=[[Y. Matsumoto]], [[Xuan Cheng]], [[A. Imai]], [[S. Maruyama]], [[H. L. Xin]], [[M. B. Okatan]], [[S. Jesse]], [[S. V. Kalinin]] and [[V. Nagarajan]]|date=2014-09-18|year=|month=|title=Deterministic arbitrary switching of polarization in a ferroelectric thin film|journal=[[ネイチャー・コミュニケーション|Nature Communications]] 5|volume=|issue=4971|page=|pages=|publisher=[[ネイチャー|Nature Publishing Group]]|location=|issn=|isbn=|doi=10.1038/ncomms5971|pmid=|pmc=|naid=|oclc=|id=|url=http://www.nature.com/ncomms/2014/140918/ncomms5971/full/ncomms5971.html|format=|accessdate=|quote=}}</ref><ref name="PZT_PR">{{Cite press release|title=強誘電体メモリー、超高密度化に道|publisher=[[東北大学]]|date=2014年9月19日|url=http://www.tohoku.ac.jp/japanese/newimg/pressimg/tohokuuniv-press_20140919_02web.pdf|format=PDF|language=|accessdate=|archiveurl=|archivedate=|quote=}}</ref><ref name="PZT_news">{{Cite news|title=東北大、強誘電体メモリの記録密度を大幅に向上させる可能性を示す|newspaper=|date=2014-09-22|author=|authorlink=|author2=|authorlink2=|author3=|authorlink3=|author4=|authorlink4=|author5=|authorlink5=|author6=|authorlink6=|author7=|authorlink7=|author8=|authorlink8=|author9=|authorlink9=|url=http://news.mynavi.jp/news/2014/09/22/305/|accessdate=|format=|agency=|location=|publisher=[[マイナビ]]|isbn=|issn=|oclc=|pmid=|pmd=|bibcode=|doi=|id=|page=|pages=|at=|language=|trans_title=|quote=|archiveurl=|archivedate=|ref=|postscript=}}</ref>。
 
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*インプリント[[現象]]<ref name="imprint" />が起き難い。
*[[強誘電体|強誘電性]]を得るためには700[[セルシウス度|°C]]以上の高[[温度|温]]で[[結晶化]]させねばならない。
*[[強誘電体|残留分極]]を持つa[[光学軸|軸]][[方向]]に[[薄膜]]を成長させ難い。
*[[強誘電体|残留分極]]量が25[[マイクロ|{{el}}]][[クーロン|C]]/[[センチメートル|cm]]<sup>2</sup>と相対的に小さい。
 
====BLT====
'''(Bi,Ln)<sub>4</sub>Ti<sub>3</sub>O<sub>12</sub>''' Ln=[[ランタン|La]], [[ネオジム|Nd]], [[プラセオジム|Pr]], etc. <!--'''[[チタン酸ビスマスランタン|(Bi,La)<sub>4</sub>Ti<sub>3</sub>O<sub>12</sub>]]''' ([[チタン酸ビスマスランタン]])-->
 
*[[強誘電体|残留分極]]量が10[[マイクロ|{{el}}]][[クーロン|C]]/[[センチメートル|cm]]<sup>2</sup>から50[[マイクロ|{{el}}]][[クーロン|C]]/[[センチメートル|cm]]<sup>2</sup>(配向に依存する)と比較的大きい。
*[[ビスマス|Bi]]に対して[[ランタン|La]]を10%から20%程度添加すると、疲労[[現象]]<ref name="fatigue" />を抑制できる<ref name="BLT_米国物理学協会_PDF">{{Cite journal||last=|first=|author=[[Su Jae Kim]]|authorlink=|coauthors=[[Chikako Moriyoshi]] [[Sayaka Kimura]] [[Yoshihiro Kuroiwa]] [[Kenichi Kato]] [[Masaki Takata]] [[Yuji Noguchi]] [[Masaru Miyayama]]|date=2007-09-10|year=|month=|title=Direct observation of oxygen stabilization in layered ferroelectric Bi<sub>3.25</sub>La<sub>0.75</sub>Ti<sub>3</sub>O<sub>12</sub>|journal=[[APPLIED PHYSICS LETTERS]]|volume=91|issue=062913|page=|pages=|publisher=[[米国物理学協会|American Institute of Physics]]|location=|doi=10.1063/1.2768906 |pmid=|pmc=|naid=|oclc=|issn=|isbn=|id=|url=http://scitation.aip.org/deliver/fulltext/aip/journal/apl/91/6/1.2768906.pdf?itemId=/content/aip/journal/apl/91/6/10.1063/1.2768906&mimeType=pdf&containerItemId=content/aip/journal/apl|format=PDF|accessdate=|quote=}}</ref><!--<ref name="BLT_米国物理学協会">{{Cite journal||last=|first=|author=[[Su Jae Kim]]|authorlink=|coauthors=[[Chikako Moriyoshi] [[Sayaka Kimura]] [[Yoshihiro Kuroiwa]] [[Kenichi Kato]] [[Masaki Takata]] [[Yuji Noguchi]] [[Masaru Miyayama]]|date=2007-09-10|year=|month=|title=Direct observation of oxygen stabilization in layered ferroelectric Bi<sub>3.25</sub>La<sub>0.75</sub>Ti<sub>3</sub>O<sub>12</sub>|journal=[[APPLIED PHYSICS LETTERS]]|volume=91|issue=062913|page=|pages=|publisher=[[米国物理学協会|American Institute of Physics]]|location=|doi=10.1063/1.2768906|pmid=|pmc=|naid=|oclc=|issn=|isbn=|id=|url=http://scitation.aip.org/content/aip/journal/apl/91/6/10.1063/1.2768906|format=|accessdate=|quote=}}</ref>--><ref name="BLT_理化学研究所_PDF">{{Cite journal||last=|first=|author=[[Su Jae Kim]]|authorlink=|coauthors=[[Chikako Moriyoshi]] [[Sayaka Kimura]] [[Yoshihiro Kuroiwa]] [[Kenichi Kato]] [[Masaki Takata]] [[Yuji Noguchi]] [[Masaru Miyayama]]|date=2007-09-10|year=|month=|title=Direct observation of oxygen stabilization in layered ferroelectric Bi<sub>3.25</sub>La<sub>0.75</sub>Ti<sub>3</sub>O<sub>12</sub>|journal=|volume=|issue=|page=|pages=|publisher=[[理化学研究所]]|location=|doi=|pmid=|pmc=|naid=|oclc=|issn=|isbn=|id=|url=http://www.spring8.or.jp/pdf/en/res_fro/07/056-057.pdf|format=PDF|accessdate=|quote=}}</ref><!--<ref name="BLT_理化学研究所">{{Cite press release|title=1兆回繰り返し使える強誘電体メモリー材料のしくみを解明 - “魔法の置換” 有害な鉛を使わない新材料開発へ新しい展望 -|publisher=[[理化学研究所]]|date=2007年10月1日|url=http://www.spring8.or.jp/ja/news_publications/press_release/2007/071001/index.html|format=|language=|accessdate=|archiveurl=|archivedate=|quote=}}</ref>-->。
*600[[セルシウス度|°C]]という低[[温度|温]]で形成できる<ref name="BLT_富士通">{{Cite press release|title=FeRAM用新強誘電体薄膜の低温成膜に成功|publisher=[[富士通]]|date=2001年3月30日|url=http://pr.fujitsu.com/jp/news/2001/03/30-1.html|format=|language=|accessdate=|archiveurl=|archivedate=|quote=}}</ref>
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==外部リンク==
*[http://www.cypress.com/home Cypress Semiconductor] {{En icon}}
<!--**[http://www.ramtron.com/default.aspx Ramtron <nowiki>|</nowiki> F-RAM & Semiconductor Technology <nowiki>|</nowiki> Wireless Memory] {{En icon}}-->
**[https://web.archive.org/web/20130429170300/http://www.ramtron.com/(S(2w1ww4e3rfzvwvfrm5ovmpz1))/default.aspx Ramtron <nowiki>|</nowiki> F-RAM & Semiconductor Technology <nowiki>|</nowiki> Wireless Memory] -{{En icon}} 【旧】[[ラムトロン・インターナショナル]]<!--{{仮リンク|en|Ramtron International}}-->
*[http://www.fujitsu.com/global/index.html Fujitsu Global] {{En icon}}
*[http://www.toshiba.co.jp/worldwide/index.html Toshiba : Global Top Page] {{En icon}}
*[http://www.sony.net/index.html Sony Global - Sony Global Headquarters] {{En icon}}
**[http://www.sony.co.jp/Products/felica/index.html FeliCaホームページ]