「ヒドロホルミル化」の版間の差分

しかし、トリフェニルホスフィンのように単純なホスフィン配位子を持つロジウム触媒の系では位置選択性が悪く、生成物は位置異性体の混合物となる。この場合ホスフィン配位子を大過剰に使用するとコバルト触媒と同じように末端側にホルミル基が導入された生成物が主生成物となる。より過剰量のホスフィン配位子の使用は反応速度の低下を招くが、位置選択性をの向上げ及び金属触媒のクラスター化抑制効果があるためには、基質に応じたホスフィン配位子を用いる必要の選択が重要である。一方また、[[スチレン]]の場合には内部の炭素にホルミル基が導入された[[ヒドロトロパアルデヒド]]が主生成物として得られる。