「オゾン」の版間の差分

[[半導体]]部品の洗浄において、主流のRCA洗浄では[[アンモニア]]や塩酸フッ化物<!--塩酸フッ化物とは?-->が用いられるが、オゾンガスを溶解させたオゾン水は排水処理の面で環境負荷が低く<ref>{{Cite journal|和書|title=水の活性化と機能水-表面処理における各種対策について |journal=鍍金の世界 |publisher=日本鍍金材料協同組合 |volume=41|isdue=4|date=2008-04 |pages=52-56 |naid=40016050513 }}</ref>、代替として半導体の基板表面の有機物や金属の除去・洗浄に用いられている<ref>{{cite journal|和書|author=黒部洋（栗田工業株式会社）「|title=機能水の製造方法および洗浄効果 オプト・半導体デバイスにおけるウェットプロセスの技術トレンド(薬品・機能水編)」『|journal=マテリアルステージ』 |volume=7(|number=10)[|date=2008.1]、-01 |pages=40-43頁。 |publisher=技術情報協会 |naid=40015808393}}</ref>。