「ASML」の版間の差分

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[[:en:Integrated device manufacturer|IDM]]や[[ファウンドリ]]などの半導体メーカーは、[[ムーアの法則]]に従い、製造するIC([[集積回路]])を年々微細化する。ICの製造工程では、30から40回[[シリコンウェハー]]に露光するため、露光機の性能がICの性能を左右すると言っても過言ではない。その為、ASMLは継続的に研究開発を行っている<ref>{{cite web|url=http://jp.wsj.com/articles/SB11248959841534934584204582351212992525898|title=ASMLの半導体技術、「ムーアの法則」維持できるか|accessdate=2017-01-02|date=2016-10-03|publisher=ウォール・ストリート・ジャーナル}}</ref>。
 
ASMLは[[液浸]]の採用によって2003年以降、躍進した<ref name="ekishin">[http://eetimes.jp/ee/articles/1608/30/news022_2.html F2スキャナーからArF「液浸」スキャナーへの大逆転]</ref>。一方、現代の液浸露光技術に関する基本特許は[[ニコン]]が保有していて両社の間には最近の2019年まで様々な法的紛争が起きていた。2006年に出荷された「XT:1700i」は45nm世代の量産に向けたArF液浸スキャナーで、光学系の開口数(N.A.)が1.20と、初めてこれまでの限界とされてきた1.00を超えた<ref name="ekishin" />。
 
近年の露光機には、光源に[[紫外線]]を発するArF[[エキシマレーザー]]が使用されており、さらに[[液浸]]露光技術が用いられる。2019年には液浸露光装置の[[分解能|解像度]]が13[[ナノメートル]]に達した<ref name="ASMLの歴史">{{Cite web|title=ASMLの歴史|url=http://www.asml.com/asml/show.do?lang=JA&ctx=43436&rid=43443|accessdate=2012-07-20}}</ref>。
光学系は前から[[カール・ツァイス]]が供給し、[[蛍石]]や[[石英]]が[[レンズ]]に使用されている。近年では反射鏡を組み合わせた光学系もある。技術をアウトソーシングする戦略は、国内外から[[オープンイノベーション]]の成功例とも評価された。
 
ただし、躍進を始めてからは違う局面になっている。ツァイスの半導体事業は、2000年代初頭に子会社であるSMT社に分社化されていて、近年ASMLが資本参加している<ref>{{Cite web|title=ASML、独光学機器大手系に1100億円出資|url=https://www.nikkei.com/article/DGXLASGM04H08_U6A101C1EAF000/|website=日本経済新聞 電子版|accessdate=2020-09-18|date=2016-11-04|language=ja}}</ref>。前からの光源サプライヤーであるアメリカの{{仮リンク|サイマー|en|Cymer|label=}}は2012年に買収している<ref name=":1" />。2020年には他の光学メーカーを買収し、光学技術まで内化している<ref name=":2">{{Cite web|title=半導体製造装置のASMLが独光学部品メーカーを買収|url=https://fbc.de/scp-01160720/|website=FBC|date=2020-07-16|accessdate=2021-02-10|language=ja|first=|last=|publisher=}}</ref>。
 
ASMLは本来オランダの政策金融で破綻を免れた後、日本勢の独走に危機感を感じていたアメリカ官民の理解を得て、技術導入と買収によって成長した企業という背景をもつ。
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