小椋正気(Seiki Ogura、おぐら せいき、1941年(昭和16年)2月-)は、数多くの半導体製造技術(LDD、Halo LDD、サイドウォール、スペーサー、CMP、ダマシン)やmpu の開発に携わった半導体の世界的研究者。1996年にIEEEモーリス・N・リーブマン記念賞を受賞。IEEEフェロー。

小椋正気
生誕 (1941-02-02) 1941年2月2日(79歳)
福岡県
居住 アメリカ合衆国
国籍 日本の旗 日本
研究分野 半導体
研究機関 IBM
出身校 早稲田大学カリフォルニア大学ロサンゼルス校
主な受賞歴 モーリス・N・リーブマン記念賞(1996年)
プロジェクト:人物伝
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略歴編集

1941年、福岡県大牟田市で生まれ、長崎県大島で幼少期を過ごす。福岡県立修猷館高等学校を経て、早稲田大学理工学部に進む。1960年代、大学院在籍中に日本の半導体分野の発展を目指して単身で渡米。カリフォルニア大学ロサンゼルス校で量子力学、電子工学、マテリアルの3つの科目を専攻し、当時のUCLAで最短記録となる2年半でマスター+Ph.D. の学位を取得。

米IBMにて数々の半導体技術の発明と開発をした後、独立。彼の発明は現在の半導体技術の基礎となり、幅広く応用されている。

受賞歴編集

論文編集

外部リンク編集