堀場エステック

株式会社堀場エステック
HORIBA STEC, Co., Ltd.
種類	株式会社
市場情報	非上場
本社所在地	日本; 〒601-8116; 京都府京都市南区上鳥羽鉾立町11-5
設立	1974年(昭和49年) 1月19日
業種	電気機器
法人番号	3130001010115
事業内容	流体計測・制御機器、真空計測・分析機器、液体材料気化装置、標準ガス発生装置、ガス発生・精製装置、精密混合装置及びその応用製品の開発、製造、販売
代表者	代表取締役会長　堀場厚; 代表取締役社長　堀場弾
資本金	14億7800万円
売上高	452億4500万円（2017年12月31日時点）
営業利益	103億6500万円（2017年12月31日時点）
経常利益	111億4800万円（2017年12月31日時点）
純利益	76億1000万円（2017年12月31日時点）
総資産	460億円（2017年12月31日時点）
決算期	12月31日
主要株主	株式会社堀場製作所
主要子会社	HORIBA STEC KOREA Ltd.; HORIBA Taiwan, Inc.; HORIBA Precision Instruments(Beijing) Co.,Ltd
外部リンク	公式サイト
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株式会社堀場エステック（ほりばえすてっく）は、株式会社堀場製作所の連結子会社で半導体製造分野で使用される流体（気体・液体）の流量制御機器（マスフローコントローラ）を主力製品としている。

1974年に公害測定機器に関する技術の確立を目的に通産省の指導のもと堀場製作所、島津製作所、東芝ベックマン(現ベックマン・コールター)、高千穂化学工業の共同出資で設立された。その後、これらの流体制御技術を半導体分野へ応用展開し現在は流量制御装置分野で世界シェア30%以上となる。マスフローコントローラを中核に、液体材料の気化供給装置や真空計測機器等の開発、製品化を行っている。近年世界トップレベルの技術を持つ米国ベンチャー企業より、四重極質量分析計、真空計のIP権取得やマスフローコントローラ関連技術・製品の導入も行っている。

HORIBA Group is One Company.の経営方針のもと、堀場製作所やグループ各社の半導体事業部と共に最先端の半導体・液晶パネル製造に不可欠な流体制御機器や検査装置の開発、販売に携わっている。2005年10月にグループの量産工場として「阿蘇新工場」を竣工。2007年7月には米国のシリコンバレーに半導体産業をはじめとしたハイテク産業の発展に貢献する「テクノロジーセンター」を開設した。

2005年1月に堀場製作所の完全子会社となる。